招标公告

1. 招标条件

本招标项目磁控溅射镀膜机招标人为华中光电技术研究所(武汉),招标项目资金来自国拨资金,出资比例为 $1 0 0 %$ 。该项目已具备招标条件,现对磁控溅射镀膜机进行国内公开招标。

2. 项目概况与招标范围

2.1 招标编号:ZKX20250631A001

2.2招标项目名称:磁控溅射镀膜机

2.3 数量:1台。

2.4 设备用途:

磁控溅射镀膜机主要用于反应性或非反应性镀膜工艺沉积复合材料的膜层,其可以很好的控制膜的成份、厚度、均匀性和机械性能等,特别适用于激光器功能性薄膜的制备场景,特别是用于激光器芯片减薄后的金属电极制作。现有大型磁控溅射镀膜设备的靶位、极限真空度、加热温度不符合,且一些功能性薄膜会污染腔体导致其它镀膜工艺不稳定,因此一台磁控溅射镀膜机专门用于激光器芯片电极镀膜。

2.5 交货地点:湖北武汉项目现场。

2.6 交货期:合同签订后12个月内。

3.投标人资格要求

3.1 投标人须具有独立承担民事责任能力的在中华人民共和国境内注册的法人或其他组织,具备有效的营业执照或事业单位法人证书或其它营业登记证书。

3.2 本次招标不接受联合体投标。

3.3 本次招标不接受代理商投标。

3.4 投标人2022年1月1日至投标截止之日止(以合同签订时间为准)应具备同类型产品的至少1项销售业绩,提供合同复印件等证明材料。(证明材料应包含:合同首页及盖章页或者签署页。)

3.5 信誉要求:未被列入“信用中国”(www.creditchina.gov.cn)网站“记录严重失信主体名单,须提供上述网站截图证明或提供承诺书。

3.6投标人必须向招标代理机构购买招标文件并进行登记才具有投标资格。